来源：金融界网站
来源：中银国际证券
集成电路光刻工艺环节，包括涂胶、光刻、显影、刻蚀、去胶、清洗、烘干等，因此光刻工艺设备，主要是指光刻机、涂胶显影设备、去胶设备，光刻工艺材料主要是指光刻胶。国产光刻机、涂胶显影设备处于所有集成电路工艺设备国产化最薄弱环节，而光刻胶国产化也处于起步阶段，从自主可控角度，光刻工艺环节的设备与材料应从产业链上中下游重点扶植、培育。
报告要点
年全球光刻机销量台，同比下降5％，销售额估计为亿美元，同比增长10％。根据ASML、Canon、Nikon季报数据统计，-年全球光刻机销量依次是台、台、台、台，-年依次同比增长22％、27％、-5％；参考ASML光刻机单价推算，我们估计-年全球光刻机销售额依次是61、75、98、亿美元，-年依次同比增长24％、30％、10％。
DUV和EUV工艺支撑ArFi、EUV光刻机需求强劲。年光刻机销量台，其中EUV26台，ArFi93台，ArFdry35台，KrF91台，I-Line台，分别同比增长44％、0％、30％、-19％、-11％，EUV与ArFi销量合计占比1/3，参考ASML光刻机单价推算，年光刻机按销售额计算的EUV占28％，ArFi占54％，ArFdry占5％，KrF占10％，I-Line占3％，EUV与ArFi销售额合计88亿美元占比82％，同比增长15％。
ASML、Canon、Nikon市占率依次为89％、3％、8％。年按销量计算ASML市占率64％，Canon市占率23％，Nikon为13％，ASML和Nikon市占率上升；按销售金额计算ASML的市占率89％，Canon市占率3％，Nikon为8％，Nikon市占率上升而Canon市占率下降。分产品看，EUV设备市场上ASML市占率保持％；ArFi市场上ASML市占率88％，Nikon市占率12％，ArFdry市场上ASML市占率63％，Nikon市占率37％；KrF市场上ASML、Canon、Nikon市占率分别为71％、24％、4％，I-Line三家公司市占率依次是30％、54％、16％；各类光刻机的竞争格局整体上变化不大。
国产光刻机市占率接近零，上微承担光刻机国产化重任。根据中国国际招标网对12寸线的统计，CMP、刻蚀设备、清洗设备、PVD设备、热处理设备、去胶设备国产化趋势相对较好，但涂胶显影、量测、离子注入机、CVD等国产化率偏低，光刻机尚未取得零的突破，大陆光刻机市场也被ASML、Canon、Nikon垄断。随着类似燕东微、上海积塔、士兰微厦门项目等成熟制程及特色工艺产线的建产，光刻机仍然存在国产化机遇。
大陆涂胶显影设备市场被TEL垄断，12寸线国产化率接近为0％。据Gartner数据，年全球涂胶显影设备市场规模约23亿美元，其中东电电子TEL市占率为88％，迪恩士和Semes合计占有10％左右，市场集中度高。根据中国国际招标网统计，TEL在中国大陆的市占率92％，处于绝对垄断地位；涂胶显影设备国产化率仅为5％。沈阳芯源承担涂胶显影国产化重任，其前道I-line涂胶显影机已在长江存储上线进行工艺验证；前道Barc（抗反射层）涂胶设备在已在上海华力上线测试应用，可满足客户28nm技术节点加工工艺。
掩膜板主要来自日美厂商，国产化之路遥远。根据SEMI，全球掩模板市场规模36亿美元，约占半导体材料的13％左右，掩膜板市场主要被日本TOPPAN、DNP、Photronics、中国台湾光罩等国际品牌垄断，EUV光刻胶。国产掩膜板供应商主要是路维光电、清溢光电、中芯国际，其中路维光电主要经营面板、IC封装、PCB等掩膜板，清溢光电前五大客户主要是BOE、天马、华星光电等面板企业，其IC掩膜板与国际厂商还有很大差距。
国产光刻胶也有布局，但与国际品牌差距很大。年全球光刻胶市场规模17亿美元，主要被JSR、东京应化、富士电子材料、信越化学等日本企业垄断。国产从事光刻胶研发和生产的企业包括北京科华微电子、江苏瑞红电子、南大光电、上海新阳（子公司上海芯刻微材料）等，其中北京科华微电子发展靠前，客户包括中芯国际、杭州士兰微等合作伙伴，已实现G线正胶、I线正胶、KrF深紫外光刻胶的产业化。
；正文；
光刻工艺国内外设备与材料供应商比较
光刻工艺流程：底膜处理→涂胶→前烘→曝光→显影检验→刻蚀→去胶→最终检测。我们这里主要探讨光刻设备、涂胶显影设备、去胶设备。
年全球光刻设备市场规模亿美元，同比增长10％
根据ASML、Canon、Nikon年报数据统计，年全球光刻机销量台，其中EUV26台，ArFi93台，ArFdry35台，KrF91台，I-Line台，折合销售总额为亿美元，占晶圆制造工艺设备市场的20％左右。
参考ASML光刻机单价推算，年光刻机市场上按销售额计算的EUV占28％，ArFi占54％，ArFdry占5％，KrF占10％，I-Line占3％。
年全球光刻机市场上ASML市占率89％
年按销售金额计算ASML的市占率89％，Canon市占率3％，Nikon为8％。
年按销量计算ASML市占率64％，Canon市占率23％，Nikon为13％。分产品看：
（1）EUV设备市场上ASML市占率％；
（2）ArFi市场上ASML市占率88％，Nikon市占率12％；
（3）ArFdry市场上ASML市占率63％，Nikon市占率37％；
（4）KrF市场上ASML、Canon、Nikon市占率分别为71％、24％、4％；
（5）I-Line三家公司市占率依次是30％、54％、13％。
掩膜板主要来自日美厂商，国产化之路遥远
根据SEMI，全球掩模板市场规模36亿美元，约占半导体材料的13％左右。掩膜板市场主要被日本TOPPAN、DNP、Photronics、中国台湾光罩等国际品牌垄断。
国产掩膜板供应商主要是路维光电、清溢光电、中芯国际，其中路维光电主要经营面板、IC封装、PCB等掩膜板，清溢光电前五大客户主要是BOE、天马、华星光电等面板企业，其IC掩膜板与国际厂商还有很大差距。
国产光刻胶也有布局，但与国际品牌差距很大
年全球光刻胶市场规模17亿美元，主要被JSR、东京应化、富士电子材料、信越化学等日本企业垄断。
国产从事光刻胶研发和生产的企业包括北京科华微电子、江苏瑞红电子、南大光电、上海新阳（子公司上海芯刻微材料）等，其中北京科华微电子发展靠前，客户包括中芯国际、华润上华、杭州士兰微、吉林华微电子、三安光电、华灿光电、德豪光电，已实现G线正胶、I线正胶、KrF深紫外光刻胶的产业化。
转载请注明：http://www.0431gb208.com/sjszyzl/7533.html
